CCD視覺檢 測面臨的挑戰(zhàn)及發(fā)展趨勢

   挑戰(zhàn)：復雜環(huán)境下檢 測精度可能受干擾，比如強光、粉塵等惡劣工況；對于一些形狀復雜、特征不明 顯物體的準確檢 測難度較大；同時系統(tǒng)成本相對較高，前期投入需要一定資金。

   發(fā)展趨勢：不斷提 升分辨率和檢 測速度以適應更高速、高精度的生產需求；結合人工智能技術，如深度學習算法，讓檢 測能力更智能、對復雜物體和缺陷的識別更準確；向小型化、集成化方向發(fā)展，便于在更多不同場景下靈活安裝使用。